故障分析和材料特性
完整的纳米级FTIR、纳米级化学成像和材料表征平台
工业公司内部的失败分析和材料描述组专注于解决问题，以帮助改进流程开发和解决流程相关问题，以帮助其组织节约成本和增加收入。
nanoIR3-s提供完整的纳米级 FTIR、纳米级化学成像和材料表征平台。它结合了两种互补的纳米级红外技术，AFM-IR和散射SNOM，以及基于AFM的材料属性映射。nanoIR 平台高效可靠，在一天内实现高效。应用包括：
- 纳米有机污染物
- 低电介质
- 半导体材料
- 数据存储介质和幻灯片
有机纳米污染物是半导体和数据存储公司的一个严重缺陷问题，因为目前的表征技术能力有限。本说明介绍了 nanoIR3 在此类 缺陷和其他半导体材料的测量中的应用。nanoIR3系统基于一项突破性技术，以10纳米的空间分辨率获取红外光谱，使研究人员能够获得其材料的纳米级化学指纹。
使用安观斯仪器专利的AFM-IR技术生成的光谱与传统的FTIR光谱直接相关，因此可与标准FTIR库相媲美。除了化学分析之外，nanoIR3 还提供具有纳米级空间分辨率的互补机械、电气、热和结构属性信息。
