Analyse des défaillances et caractérisation des matériaux
Les groupes d’analyse des défaillances et de caractérisation des matériaux au sein des entreprises industrielles se concentrent sur la résolution de problèmes afin d’améliorer l’élaboration des processus et de résoudre les problèmes liés aux processus afin d’aider leurs organisations à économiser des coûts et à accroître leurs revenus.
Le nanoIR3-s fournit une plate-forme complète de caractérisation des produits à l’échelle nanométrique, de l’imagerie chimique et des matériaux. Il combine deux techniques d’IR complémentaires à l’échelle nanométrique, l’AFM-IR et la diffusion SNOM couplée à la cartographie des propriétés des matériaux à base d’AFM. Le système est productif et fiable, vous obtenant des données productives dans la journée. Les demandes incluent :
- Contaminants nanodé organiques
- Diélectriques LowK
- Matériaux semi-conducteurs
- Support de stockage de données et diapositive
Les nanotent contaminants organiques constituent un grave problème de défectuosité pour les entreprises de semi-conducteurs et de stockage de données, où les techniques de caractérisation actuelles ont des capacités limitées. Le système nanoIR3 acquiert des spectres IR à des résolutions spatiales jusqu’à 10 nm, permettant la mesure de ces défauts et d’autres matériaux semi-conducteurs.
Les spectres générés à l’aide de la technique brevetée AFM-IR de Bruker sont directement en corrélation avec les spectres FTIR traditionnels, et sont donc comparables aux bibliothèques FTIR standard. En plus de l’analyse chimique, nanoIR3 fournit des informations complémentaires sur les biens mécaniques, électriques, thermiques et structuraux avec résolution spatiale à l’échelle nanométrique.
