Dimension IconIR300 纳米红外光谱仪
Dimension IconIR300
Dimension IconIR300™大样品纳米红外系统为半导体应用提供高速、高精度的纳米级表征，具有优秀的测量能力、样品尺寸和材料类型灵活性。通过其专利的光热红外光谱技术和纳米级原子力显微镜(AFM)性质成像能力的结合，IconIR300 能够实现自动化晶圆检测和缺陷识别，适用于最广泛的晶圆和光掩模样品测量。该系统显著扩展了AFM-IR技术在半导体行业的应用范围，超越了传统技术所能达到的领域。
IconIR300建立在Dimension IconIR系统开创性大样品架构之上，提供相关显微镜和化学成像，与传统技术相比增强了空间分辨率和灵敏度。可与自动化晶圆处理和先进的数据收集/分析软件集成，该系统可节省时间和成本，提高生产效率。
半导体行业的超凡纳米红外光谱和化学成像
On仅Dimension IconIR300系统提供：
- Whole-wafer, non-destructive measurement of 200 mm and 300 mm wafers;
200mm和300 mm晶圆进行全面、无损测量
- Unambiguous identification of organic and inorganic nano-contaminants on semiconductor wafers and photomasks with data directly correlating to FTIR libraries;
识别半导体晶圆和光掩模上的有机和无机纳米污染物，数据直接与FTIR库相关联分析
- Non-destructive step-height measurement and nanoscale material property mapping; and
无损台阶高度测量和纳米级材料性质成像；以及
- Automated, recipe-based measurements and KLARF file support for user-friendly access to comprehensive data.
自动化、程式化测量和KLARF文件支持，方便用户访问全部数据。
200mm和300 mm晶圆的全面测量
配置布鲁克专利、独特的AFM-IR模式和专有的PeakForce Tapping®性质成像模式，结合IconIR300的大样品架构，为最广泛的半导体应用提供大的样品灵活性。IconIR300提供直径高达300 mm样品的全面测量，包括各种厚度和材料类型的样品，例如：
- 有机和无机样品
- 图案化的晶圆
- 裸晶圆
- 光掩模
- 数据存储介质晶圆
半导体应用的高性能纳米级红外光谱
AFM-IR是纳米红外领域的首选技术，Bruker是光热AFM-IR纳米红外光谱技术的创新者。
Dimension IconIR300提供：
- 高精度、丰富、详细的纳米光谱，与FT-IR光谱一致，实现纳米级薄污染物测量；
- 支持各种样品的多种高级测量和操作模式，适用于工业和学术用户；
- 半导体应用中领先的高性能AFM-IR光谱技术；以及
- 用于聚合物薄膜的可靠表面灵敏化学测量
晶圆和光掩模上的高分辨率化学成像
Dimension IconIR300基于行业领先的AFM性能和Bruker专利的Tapping AFM-IR成像技术，提高了纳米红外技术的空间分辨率和样品尺寸的适用范围。
Dimension IconIR300提供：
- 优于10 nm空间分辨率的化学成像，用于各种样品类型的化学成像，包括有机和无机污染物；
- 提供一致、可靠、高质量的数据；以及
- 独特的AFM-IR技术，用于消除全部机械伪影，确保只收集真正的化学成分信息。
高度自动化的纳米污染物识别
关键自动化能力包括：
· 台阶高度测量以及纳米级材料性质成像
· 光学和AFM图像的图案化识别
· 探针位置校正
· 支持全晶圆或网格成像
· 图像定位精度在几十纳米以内
· 复杂、简单的程式化编写；以及
· KLARF文件导入能力，支持纳米红外自动化测量
这些能力，结合具有高分辨率红外光谱的纳米级化学表征，使学术和工业用户能够克服传统半导体材料缺陷识别的限制。
