TriboLab CMP
提供广泛的参数和工况模拟灵活性，用于精确和全面表征CMP过程及相关耗材
TriboLab CMP
TriboLab CMP 利用其前身产品 （Bruker CP-4） 超过 20 年的 CMP 领域专业知识，为业界领先的 TriboLab 平台带来了一套完整的功能。基于本套设备产生的高精度和高可重复性使得在整个 CMP 流程中能够进行高效的鉴别、检查和连续功能测试。TriboLab CMP 能够提供广泛的抛光压力 （0.05-50 psi）、速度（1 至 500 rpm）、摩擦、声发射和表面温度测量的工艺开发工具，可准确、完整地描述 CMP 工艺和耗材
精确复制
小规模研发系统中的 ROI
此台式工具可再现全尺寸晶圆抛光工艺条件，而无需在生产设备上停机。
灵活
参数控制
允许量身定制的测试，以加快材料开发，并精确优化流程。
专家
应用和支持
我们与大型安装基地合作多年，为您的实验室提供专业知识。
用于 CMP 的小型研发规模专业系统
布鲁克的TriboLab CMP工艺和材料表征系统是专为晶圆抛光工艺而设计，是具有可靠、灵活和高效的台式设备。
- 重现全尺寸晶圆抛光工艺条件，无需在生产设备上停机
- 提供无与伦比的测量可重复性和细节检测
- 允许在小样品上进行测试，比全晶圆测试节省大量成本
板载诊断系统可以更好地了解抛光过程
在 TriboLab CMP 测试仪上测试调节盘。测试标识两组抛光盘。摩擦系数测试与抛光盘磨损相关。
- 提供更多的瞬态抛光过程的参数
- 从接触抛光盘开始直至整个测试过程都能收集数据
- 通过更完整、更详细的数据实现早期流程开发决策
具有灵活的样品类型、尺寸和安装配置
- 抛光大多数平面材料，能使用各种修正盘，抛光液，和抛光垫
- 轻松使用 100 mm 以下的小尺寸晶圆
- 可同时安装多个样品，测试更灵活
用于抛光盘测试的 CMP 测试仪的示意图。