Bruker a une gamme de systèmes pour le wafer level packaging (emballage au niveau des plaquettes). Il est possible de mesurer la composition au niveau des bosses et des épaisseurs de métaux sous la bosse à l’aide du µXRF.
Les fabricants de semi-conducteurs font face à de nombreuses tendances émergentes dans le wafer level packaging (emballage au niveau des plaquettes). Cela comprend :
Ces tendances critiques créent des défis connexes pour la métrologie et génèrent le besoin d'avoir :
Ces besoins entraînent la demande de mesures non-destructives de l'épaisseur au niveau des couches RDL et UBM qui comprennent une technique de mesure des petites focalisations avec un excellent positionnement de la focalisation, avec des densités d’interstices plus étroits (<200μm) et des billes de soudure plus petites (<100μm).
D'autres considérations clés sont les mesures de composition de la couche UBM massive où la composition Ni(P) impacte la qualité de la couche de passivation et les mesures de la composition des alternatives de soudure sans plomb :
La technologie XRF de Bruker répond à ces défis par des techniques de dispersion d'énergie (~150eV) avec un groupe de détecteurs multiples pour des mesures rapides à haut débit et une efficacité à 100% des détecteurs pour Sn/Ag, plus de petits optiques de focalisation (polycapillaires) capables de mesurer des caractéristiques allant jusqu'à 50×50μm. De plus, la technologie XRF de Jordan Valley propose des mesures non-destructives en temps réel donnant un enchaînement immédiat.