InSight CAP
适用于Etch和CMP的非破坏性量测技术
结合了高性能的轮廓仪和原子力显微镜的紧凑型机器
Bruker的InSight CAP自动化原子力分析仪是专为半导体FAB和IDM设计的紧凑量测平台，通常接入CMP，沉积和蚀刻节点的过程控制。其灵活的配置支持从100毫米到300毫米的各类晶圆尺寸，并为广泛的终端应用实现高精度测量。从高精密的实验室到全自动的晶圆厂，InSight CAP是最具成本效益的在线量测解决方案。
在线量测快速完成，适用于刻蚀和CMP工艺的开发和过程控制
先进节点中，多重图案光刻技术对CMP工艺提出了纳米级别的控制要求，以满足焦深（depth-of-focus）需求。InSight CAP基于最新一代的原子力显微镜（AFM）平台而构建，改进了系统平整度（Flatness），可在大于65微米的X/Y扫描范围内控制平整度至10 nm以下。
系统配备的NanoScope® V 64位AFM控制器实现了5倍以上探针调谐速度（Cantilever Tuning）和表面探测速度（Engage Performance），从而大大提高了生产效率，增强了系统可靠性。布鲁克专利的自适应扫描模式（DTMode）也有助于实现更快的扫描和更准确的测量精度。结合这些高级特性，InSight CAP高分辨轮廓仪能在更宏观的尺度对CMP后的凹陷和侵蚀（Dishing and Erosion）实现埃米级测量。
灵活的配置使InSight CAP支持从100毫米到300毫米的各类晶圆尺寸，并为广泛的终端应用实现高精度测量。从高精密的实验室到全自动的晶圆厂，InSight CAP都最具成本效益的在线量测解决方案。
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